저스템

• ▸FOUP/EFEM 습도제어를 통해 기존 40~45% 수준에서 1세대 적용 시 5~10%, 2세대 적용 시 1% 수준까지 낮춰 웨이퍼 산화·오염을 방지하며, 수율은 약 2~3%p 개선이 가능하다고 설명합니다.
• ▸수율 개선의 경제적 효과로 대형 FAB 기준 약 1,500억원 수준을 추정하며, 이는 고객사의 라인 수율 안정화 투자 필요성과 직결됩니다.
• ▸글로벌 IDM 3사(삼성전자·SK하이닉스·마이크론) 내 점유율 약 85%를 확보한 주력 공급 업체로서, 신규 FAB 투자 확대에도 실제 양산 극대화까지 시간이 필요한 구간에서 HBM·선단 DRAM 중심의 기존 라인 수율 안정화 수요가 확대될 때 수주·공급이 동반될 여지가 큽니다.

• ▸저스템의 1분기 실적이 시장 기대치를 상회하며 성장 스토리가 시작되었으며, 이에 따라 연간 실적 추정치를 상향하고 목표주가를 기존 20,000원에서 27,000원으로 상향 조정합니다.
• ▸1Q26 매출은 177억원(YoY +70%), 영업이익은 41억원(YoY +196%)으로 시장 컨센서스를 상회하는 어닝 서프라이즈를 기록하며 본격적인 실적 성장을 알렸습니다.
• ▸반도체 수율 개선 장비의 중요성이 부각되며 수주가 폭발적으로 증가해, 2026년 1분기 기준 신규 수주 잔고(596억원)가 이미 작년 연간 신규 수주액(544억원)을 상회했습니다.
• ▸2분기 및 연간 실적 추정치를 상향 조정했는데, 2026년 연간 매출 추정치는 1,092억원(+11% 상향), 영업이익은 292억원(+9% 상향)으로 전망합니다.

메모리 업체들이 CAPA가 제한된 상황에서 수익성 개선을 위해 동사의 수율 개선 장비 도입을 지속적으로 확대하고 있어 실적 성장세가 이어질 전망이며, 특히 글로벌 주요 고객사의 HBM 공정에서 2세대 장비 JFS가 채택되고 있는 점이 기회 요인입니다.

• ▸저스템에 대해 투자의견 Buy와 목표주가 20,000원으로 커버리지를 개시하며, 이는 HBM4 등 미세공정 수율 개선을 위한 N2 Purge 및 JFS 장비의 수요 급증에 따른 실적 성장을 반영합니다.
• ▸동사의 주력 제품인 N2 Purge는 FOUP 내부 습도와 산소를 제어해 수율을 개선하는 장비로, 국내 메모리 3사 내 점유율이 85%에 달하며 2026년에서 2027년까지 매출액이 98십억 원에서 128십억 원으로 성장할 것으로 전망됩니다.
• ▸2024년 개발된 2세대 장비 JFS는 1c 공정 등 10nm급 미세 공정과 HBM 수율 개선에 효과적이며, 2만 2천 대가 설치된 1세대 장비보다 더 큰 시장 규모를 확보할 것으로 기대됩니다.
• ▸2026년 예상 지배주주순이익은 21십억 원(2025년 3십억 원 대비 큰 폭 증가)이고, EPS는 998원으로 추정되어 목표주가 20,000원은 이에 수율 개선 장비 기업 평균 P/E 19.95배를 적용해 산출되었습니다.

고객사들의 HBM4 집중 투자와 회로 선폭 미세화 추세는 동사의 수율 개선 장비에 대한 구조적인 수요 증가 요인이지만, 습도 관리가 과도할 경우 발생할 수 있는 정전기(ESD) 문제는 동사 장비의 성능 검증 과정에서 반드시 극복해야 할 기술적 리스크입니다.